Літографія — це техніка для перенесення розробленого візерунка безпосередньо або через проміжне середовище на плоску поверхню, виключаючи ділянки поверхні, які не потребують візерунка. У літографії маски малюнки друкуються на підкладці та експонуються за допомогою aлазернийщоб нанесений матеріал був протравлений, готовий до подальшої обробки. Цей метод літографії широко використовується в масовому виробництві напівпровідникових пластин. Можливість проектувати чіткі зображення дрібних елементів на пластині обмежена довжиною хвилі використовуваного світла. Найдосконаліші інструменти літографії сьогодні використовують глибоке ультрафіолетове світло (DUV), і в майбутньому ці довжини хвилі продовжуватимуть охоплювати глибоке ультрафіолетове випромінювання (193 нм), вакуумне ультрафіолетове (157 нм і 122 нм) та екстремальне ультрафіолетове (47 нм і 13 нм) ). Складні продукти та часті зміни дизайну для ринків IC, MEMS та біомедичних ринків, де зростає попит на різноманітні функції та розміри підкладок, підвищили вартість виробництва цих високоіндивідуальних рішень, одночасно зменшуючи обсяги виробництва. Традиційні рішення для літографії на основі масок (маски) не є економічно ефективними або практичними для багатьох із цих застосувань, де витрати та час, необхідні для розробки та виробництва великої кількості комплектів масок, можуть швидко зростати. Однак застосування літографії без масок не заважає потребі в надзвичайно коротких УФ-хвилях, і замість цього використовуютьлазернийджерела в синьому та ультрафіолетовому діапазонах. У літографії без маски,лазернийбезпосередньо створює мікро/наноструктури на поверхні фоточутливих матеріалів. Цей універсальний метод літографії не покладається на витратні матеріали для маски, а зміни макета можна вносити швидко. В результаті швидке створення прототипів і розробка стають легшими, з більшою гнучкістю дизайну, зберігаючи перевагу охоплення великої площі (наприклад, 300-мм напівпровідникові пластини, плоскі дисплеї або PCBS). Щоб задовольнити вимоги швидкого виробництва,лазерищо використовуються для літографії без масок, мають подібні характеристики до тих, що використовуються для масок: Джерело світла безперервної хвилі має довготривалу стабільність потужності та довжини хвилі, вузьку ширину лінії та невелику зміну маски. Для обох застосувань важлива довговічна стабільність з невеликим обслуговуванням або перериванням виробничих циклів. Лазер DPSS має надстабільну вузьку ширину лінії, стабільність довжини хвилі та стабільність потужності та підходить для двох методів літографії. Ми проектуємо та виробляємо високопотужні одночастотні лазери з неперевершеною стабільністю довжини хвилі, вузькою шириною лінії та невеликою площею в діапазоні довжин хвиль великих сухих довжин, що робить їх ідеальними для інтеграції в існуючі системи.
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies.
Privacy Policy
