Літографія — це техніка перенесення створеного візерунка безпосередньо або через проміжний носій на плоску поверхню, за винятком ділянок поверхні, які не потребують малюнка. У масковій літографії дизайни друкуються на підкладці та експонуються за допомогою aлазерщоб депонований матеріал був витравлений, готовий для подальшої обробки. Цей метод літографії широко використовується в масовому виробництві напівпровідникових пластин. Можливість проектувати чіткі зображення дрібних деталей на пластину обмежена довжиною хвилі світла, що використовується. Найсучасніші літографічні інструменти сьогодні використовують глибоке ультрафіолетове світло (DUV), і в майбутньому ці довжини хвиль продовжуватимуть охоплювати глибокий ультрафіолет (193 нм), вакуумний ультрафіолет (157 нм і 122 нм) і екстремальний ультрафіолет (47 нм і 13 нм). ). Складні продукти та часті зміни конструкції для ринків IC, MEMS та біомедичних ринків, де зростає попит на різноманітні функції та розміри підкладок, збільшили вартість виробництва цих високоспеціалізованих рішень, одночасно зменшивши обсяги виробництва. Традиційні рішення для літографії на основі масок не є економічно ефективними або практичними для багатьох із цих застосувань, де вартість і час, необхідні для розробки та виготовлення великої кількості наборів масок, можуть швидко зрости. Проте застосування безмаскової літографії не перешкоджає потребі в надзвичайно короткій довжині УФ-хвилі, і замість цього використовуютьлазерджерела в синьому та ультрафіолетовому діапазонах. У літографії без маски,лазербезпосередньо створює мікро/наноструктури на поверхні світлочутливих матеріалів. Цей універсальний метод літографії не покладається на витратні матеріали для маски, і макет можна швидко змінити. Як наслідок, швидке створення прототипів і розробка стає простішим, з більшою гнучкістю дизайну, зберігаючи при цьому перевагу великого охоплення площі (наприклад, 300-міліметрові напівпровідникові пластини, плоскі дисплеї або PCBS). Щоб відповідати вимогам швидкого виробництва,лазериякі використовуються для безмаскової літографії, мають подібні характеристики до тих, що використовуються для аплікацій масок: Джерело світла безперервної хвилі має тривалу стабільність потужності та довжини хвилі, вузьку ширину лінії та малу зміну маски. Довготривала стабільність з невеликим обслуговуванням або перериванням виробничих циклів важлива для обох застосувань. Лазер DPSS має надстабільну вузьку ширину лінії, стабільність довжини хвилі та стабільність потужності та підходить для двох методів літографії. Ми розробляємо та виробляємо високопотужні одночастотні лазери з неперевершеною стабільністю довжини хвилі, вузькою шириною лінії та малим розміром у діапазоні довжин хвиль великої сухої довжини, що робить їх ідеальними для інтеграції в існуючі системи.
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies.
Privacy Policy
